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高純度化学品・半導体製造用装置

化学

三塩化ホウ素

当社が日本で初めて国産化した三塩化ホウ素は、最高品質の高純度品であり、アルミニウム配線のドライエッチングガスとして最適です。

有機金属化合物(MO)

化学メーカーとして蓄積された精製、分析、取り扱い技術により、不純物が極めて少ない高純度品として、高い評価を得ており、III-V族、II-VI族MO-CVD材料として多くの実績を重ねております。

ALD/CVD用金属錯体材料

電子、半導体分野での薄膜形成方法としてMOCVD法、ALD法が用いられています。当社ではこれらの形成手法に使用される金属錯体材料(Precursor)をUBE独自の合成・精製技術を用いて各種開発しております。

高純度安水

原料精製から製造、充填までの厳しい品質管理の元で一貫生産されるため、金属イオン・パーティクルが極めて少ない高品質の商品です。

高純度硝酸

当社の永年に亘る各種硝酸製品の製造経験をもとに、調査・研究を重ね、電子工業用に開発した最高レベルの精製純度を持つ製品であり、シリコンウェハーの洗浄剤・エッチング液として最適です。

UBE RID ドライエッチング排ガス処理装置

半導体の製造過程で排出される各種の有害ガスを科学的・物理的に効率よく無害化する装置です。

RID-TRAPPER 固形分含有系排ガス対応 固形分捕集装置

半導体・液晶製造工程で発生する固形分を、効率良く多量に捕集が可能です。

RID-ACE クリーニング・ユニット 半導体・液晶製造工程対応 チャンバー

チャンバーのクリーニング時に発生する臭気は、HCl、HF、Cl2等有毒なガスが多く、クリーニング時の労働環境を悪化させ、作業性にも支障をきたしています。これらのガスをTLV値以下にして、作業性を向上させます。

オゾン除害装置

低濃度でもその毒性が高く、人体への悪影響が大きいオゾンを、室温で簡便な方法で除去いたします。

硫化水素除害装置

毒性が高く、悪臭があり人体への悪影響が大きい硫化水素を、室温で簡便な方法で除去いたします。

RID-VOC VOCガス除害装置

各種の揮発性有機化合物(VOC)について低濃度から1%レベルの高濃度まで広範囲に分解除害いたします。