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RID-ACE クリーニング・ユニット

半導体・液晶製造工程対応 チャンバー
「RID-ACE」チャンバークリーニング・ユニット

概要

チャンバーのクリーニング時に発生する臭気は、HCl、HF、Cl2等有毒なガスが多く、クリーニング時の労働環境を悪化させ、作業性にも支障をきたしています。これらのガスをTLV値以下にして、作業性を向上させます。

原理

  1. チャンバー内壁に付着した固形分は、大気中の水分と反応して有害なHCl、HFを発生します。 またエッチングに使用した残存ガスも存在しています。
  2. チャンバー内に大気を導入して、固形分(ALCl3等)と水分を反応させ、発生したHCl、HF等、及び残存したガス(Cl2、BCl3、HBr等)を脱臭剤で反応および物理吸着で除害します。
  3. 処理剤の交換はブロワー運転時間で管理します。

注意:対象となるガスはエッチング装置用に限定されます。
可燃性ガス等にはご使用できません

システム構成

システム構成図

使用方法

  1. チャンバーと本装置をNW40にて接続し、本体に具備しているブロワーでチャンバー内のガスを吸引します。
  2. 有毒なガスは脱臭剤により、反応および物理吸着で除害します。
  3. 微細な塵はHEPAフィルターにより除去します。
  4. 排気はクリーンルーム内に戻すか、排気ダクトに排出します。
  5. この処置を行った後、チャンバーのクリーニングを行うと、臭気は軽減されます。

設計条件

排気風量 最大1.1m3/min
対象ガス 酸性ガス
BCl3、Cl2、HCl、COCl2、SiCl4、HF、SiF4、COF2、F2、HBr、Br2、SiBr4
SF6分解生成物
対象ガス濃度 500ppm以下
出口ガス濃度 TLV値以下
処理剤交換 ブロワー運転時間が300時間で交換 (タイマー機能)

テストデータ

風量 1.1m3/min吸引
対象装置 液晶製造工程エッチング装置
測定方法 入口ガス:ガス検知管HF用No.17
出口ガス:テープ式HFガスモニター
測定結果 出口ガス濃度100ppb以下
テストデータ

テスト方法

テスト方法

注意事項

  1. 対象ガス以外のガスおよび液体の導入は、発熱の原因となりますのでご使用できません。
  2. 規定の濃度以上のガス導入は、発熱の原因および能力の低下に起因しますので、ご注意下さい。

吸着剤の交換

300時間ご使用後は、吸着カラムを下記にご返却下さい。新規吸着剤を充填し返送します。

山口県美祢市大嶺麦川 ユー・イー・エル(株)
TEL:0837-52-2900

寸法/重量

寸法/重量

ユーティリティ

電気 AC100V、50/60Hz、15A
吸気ポート NW40
排気ポート NW40

お問い合わせ先

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