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オゾン除害装置

高純度化学品・半導体製造用装置

概要

発電機設備、半導体表面改質工程等の設備機器において、オゾンが発生します。
低濃度でもその毒性が高く、人体への悪影響が大きいオゾンを、室温で簡便な方法で除去いたします。

特長

大流量対応

最大20m3/minまで対応できます。

低圧力損失

導入総流量10m3/minにおける圧力損失は、480Paです。

オゾン除害装置 圧力損失

簡単な装置

オゾン除害に必要な外部からのユーティリティー(電気、水等)は一切不要です。

コンパクト設計

幅φ600mm、高さ1,210mmのコンパクトサイズで、設置スペースに配慮。
装置の移動も簡便です。

仕様

  • 総流量
    20m3/min以下
  • 供給オゾン濃度
    100ppm以下。これ以上の場合はご相談により対応いたします。
  • 除害剤
    供給ガス種類、濃度、温度、流量等の諸条件から選定いたします。
  • その他
    お客様の使用条件に合わせて設計別の酸性ガスとの混合ガスにも対応可能

除害能力

オゾン除害装置の出口ガス濃度はTLV値以下といたします。

除害寿命

供給ガス種類、濃度、温度、流量等の諸条件から推定いたします。

注意事項

以下の場合は、発熱の原因、能力低下に関与しますので当方へご相談ください。

  1. オゾン以外のガスの導入の場合
  2. 規定濃度以上の場合

装置

装置

装置

※ 前記装置は一部の例であり、お客様の要望により設計いたします。

お問い合わせ先

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