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三塩化ホウ素

高純度化学品・半導体製造用装置

概要

半導体製造業界では、超LSIなどICが高集積化し高性能化するに伴い、超微細加工用のドライエッチングガスが要求されています。当社が日本で初めて国産化した三塩化ホウ素は、最高品質の高純度品であり、アルミニウム配線のドライエッチングガスとして最適です。

製法・商品について

  • 当社の独自技術による新規製法です。(日本、米国、カナダ、EUなどの諸国で特許取得)
  • ホウ酸を出発原料とするクローズドシステムで、極めて純度の高い三塩化ホウ素を製造することができます。
  • 高い分析力で品質を保証します。
  • 原料からの一貫生産であるため品質にブレがありません。

品質

純度 99.999%以上
不純物 不純物(代表的分析例、ppb)
Ag < 0.2   Co < 3.0   Mg < 4.0   Pb < 0.2
Al < 2.0   Cr < 0.2   Mn < 1.0   Sb < 1.0
Bi < 5.0   Cu < 0.5   Mo < 0.5   Si < 200
Ca < 5.0   Fe < 20   Na < 2.0   Sn < 10
Cd < 0.1   K < 4.0   Ni < 3.0   Zn < 4.0
※ホスゲン、塩素などの不純ガスは検出限界(ホスゲン0.2ppm、塩素1ppm)以下です。

性質

外観 無色透明な液体
臭気 干し草様の臭い
分子量 117.2
沸点(℃) 12.4
融点(℃) -107
液密度(kg/l) 1.434(0 ℃)

用途、荷姿、取扱い上の注意

用途 当社の三塩化硼素は最高品質であるため、アルミニウム配線のドライエッチングガスの他に、各種用途にも幅広く利用することができます。
  • アルミニウム配線のドライエッチングガス
  • CVD用ガス
  • 窒化ホウ素(BN)原料
  • 医薬・農薬用原料
  • 触媒用原料
荷姿
  • 内容積 10l、 47l
  • 充填量 10kg、50kg
取扱い上の注意 燃焼性はありませんが、湿った空気中では激しく白煙を発して、ホウ酸と塩酸に分解します。

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